当前业内人士在使用小米抛光机普遍关心的是怎样降低小米的增碎率、提高米粒完整率和其表面光亮度。为此成立机械特分析总结了一套抛光技术介绍，希望对广大用户有所帮助。

　　1.关于抛光

　　抛光特点如下:

　　①抛光压力低;②抛光米粒流体的密度小;③抛光时米粒离开铁辊的速度较快;④单位产量抛光运动面积大。

　　2.传统制米vs现代制米

　　传统的制米工艺是:研削碾白-擦离碾白-喷雾着水抛光。而现在在抛光压力和伴生的摩擦温度作用下能使淀粉细末半糊化形成较光滑的表面。

　　3.抛光辊速度

　　抛光辊线速度是决定米粒的速度和碰撞力的主要因素。线速度低，米粒离开铁辊的速度就低，碰撞运动就缓和，抛光后增碎少，但转速太低.米粒翻滚不够时会使米粒局部碾得过多，产生过碾现象，过碾会降低出米率，亦会使米粒局部碾得不够，抛光不均匀;线速度高，米粒的速度和碰撞力大，米粒翻滚机会增加，抛光较均匀。

　　4.抛光小米流量

　　在抛光过程中，流量要稳定。如果流量过小，会使米粒在抛光室内翻动的机会过多，产生的摩擦力、撞击力过大，从而产生过碾现象，过碾不但会使米粒表面失去光亮，还会严重影响出米率;如果流量过大，米粒在抛光室内就不容易翻滚，使米粒与铁辊、米筛接触的机会过少，加工出来的大米同样达不到抛光的效果。

　　5.小米湿润度

　　抛光时对抛光室内大米按一定比例进行均匀地喷雾着水，使小米表面润湿，有利于米粒表面糠粉分离，同时，在擦离抛光压力和抛光过程中产生的摩擦温度作用下使小米表而淀粉糊化形成胶质层，从而达到提高小米光亮的目的。

　　6.抛光吸风量和压力

　　抛光给风形式有空心轴喷风，强拉吸风，喷风与吸风结合。但吸风最过大，会使出米受阻抛光压力升高，反而增加碎米。所以要根据具体机型选择合适的吸风量，才能有效地降低增碎，有利于抛光作用的发挥。抛光压力是由米粒的速度和碰撞力在抛光室内建立起来的。抛光压力可以通过抛光室出口的压力门来调整和控制。抛光压力大，碰撞运动剧烈，抛光后增碎多;抛光压力小，碰撞运动就缓和，抛光后增碎少。

　　成立机械提醒您：以上抛光机的应用因素是相互影响的，在实际应用中应综合考虑才能得到最佳的抛光效果。